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存储级内存(SCM‑HBM)

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概念 ID
storage-class-memory-scm
更新时间
2026-06-03
来源数量
1

存储级内存(SCM‑HBM)

1 3秒看懂

一句话定义:存储级内存与高带宽内存的融合架构(Storage Class Memory – HBM),指通过介质异构集成、封装内混合键合或系统互连协议,将DRAM级高带宽与存储级内存的大容量、非易失特性结合,形成新一代内存子系统。

核心价值:在大模型训练和推理的“内存墙”瓶颈下,用更低的每比特成本提供TB级近计算内存容量,同时维持接近HBM的带宽,为万亿参数模型、向量数据库和实时流处理提供数据吞吐底座。

2 3分钟产业解释

基本原理:传统HBM基于DRAM介质,单栈容量停留在数十GB级别,且成本高昂、掉电即失。SCM‑HBM通过两种路径扩大有效容量:其一,在同一AI加速器的2.5D/3D封装内,将DRAM堆栈与大容量存储级内存(如NAND闪存、新型非易失性内存)通过中介层或混合键合互联,由智能内存控制器统一调度;其二,通过CXL等缓存一致性互连协议,将主机HBM与机架级SCM存储池连接,形成逻辑上的统一大内存空间。

  • 目标:达到>1 TB/s的聚合带宽,同时将单加速器可见内存容量从百GB级提升至TB甚至数十TB级。
  • 应用场景:用于存放完整大模型参数(千亿至万亿参数)、训练checkpoint、向量索引、内存数据库和实时图分析。
  • 关键数据(参考尺度,非定型规格):理论带宽可达1–3 TB/s,逻辑容量可达数十TB(较传统HBM提升20–50倍),但有效延迟取决于缓存命中率和介质特性。

3 技术原理

SCM‑HBM本身并非单一器件,而是一套异构内存体系结构,实现栈可大致分为三层。

介质异构堆叠
在3D堆叠的HBM中,将靠近逻辑芯片的层级使用DRAM作为热数据高速缓存,中上层使用新型非易失性介质(如相变存储器PCM、阻变存储器RRAM、铁电存储器FeRAM或高密度NAND)。片上内存控制器需执行精细的数据迁移算法,基于访问热度将页面在DRAM和SCM之间迁移。典型DRAM访问延迟约100 ns,而NAND约10 µs,差距达两个数量级;因此必须引入硬件预取器、大粒度切换和地址间接等技术,将延迟感知控制在应用可容忍范围。

封装内异构集成
利用硅中介层或混合键合技术,将多个标准HBM堆栈与独立的SCM颗粒(如SLC/QLC NAND die或未来MRAM芯片)同装于同一封装基板上。数据在HBM与SCM之间通过超宽并行总线或本地CXL‑like协议传输。智能内存控制器需同时完成地址重映射、磨损均衡、垃圾回收和掉电保护,向上层呈现统一的虚拟HBM接口。

系统级内存池化
以CXL.mem协议为通道,将GPU中的本地HBM与外部CXL连接的SCM设备组成跨节点统一内存池。CXL 3.0支持多级交换结构,延迟可控制在≤150 ns(本地)至亚微秒级(跨节点)。应用通过统一虚拟地址访问整个池,可实现热数据的就近放置与跨物理介质的透明迁移。

核心技术挑战

  • 延迟弥合:介质间访问时间差需通过多层缓存(L1/L2 DRAM)和预取策略补偿,不当设计可能导致30–50%的有效带宽损失。
  • 数据一致性与容错:持久化介质在故障后需支持原子写入和崩溃一致性,对系统软件栈提出全新要求。
  • 磨损管理:新型非易失性介质的写耐久性有限(如QLC NAND约1000次P/E),需要全局磨损均衡和过度供给。
  • 散热与供电:集成多种介质和控制器后封装功耗密度急剧上升,当前HBM3E功耗已逾10 W/栈,混合集成后可能突破20 W/栈,对散热提出极端挑战(来源:SK海力士2023年技术白皮书、IEEE ISSCC 2024会议录)。

4 关键参数

以下参数基于主要厂商公开原型和路线图,并标注原型/预测属性。

指标传统HBM3E(量产)SCM‑HBM原型/预测数据来源/备注
单栈容量24–36 GB (2024年, SK海力士/三星)目标 >100 GB/栈(混合介质)三星CXL‑HMM概念展示,2023
带宽1.2 TB/s(HBM3E, 2024)目标 1–3 TB/s(聚合)基于多栈并行,SK海力士路线图
介质延迟DRAM: ~100 nsDRAM层同上;SCM层: 200 ns–10 µs,取决于介质相变存储器约200 ns,NAND约10 µs
持久性无(掉电数据丢失)部分或全部非易失,支持掉电保留取决于SCM介质类型
封装功耗~10–12 W/栈预测15–25 W/栈AMD 2024数据中心GPU电源设计参考
接口协议标准HBM PHY (1.2–1.6 Gbps/pin)增加本地统一控制器协议或CXL‑over‑interposerJEDEC HBM4公开文件提及扩展
错误处理片上ECC层次化ECC + 持久化日志学术架构论文(ISCA 2023)

注:上述目标参数多为原型级或路线图目标,并非量产产品规格。公开资料未见任何厂商公布SCM‑HBM定型产品数据表。

5 技术路线

当前解决“内存墙”的技术路线交叉竞争,SCM‑HBM属于其中一条衍化路径。

路线核心思想优势劣势推动者
1. 更大HBM堆叠(物理延伸)增加DRAM层数(12→16→20层)维持纯DRAM一致性成本线性/超线性增长,容量增益有限三大存储原厂
2. SCM‑HBM(本概念)混合介质集成容量弹性大,成本相对可控复杂性高,软件栈不成熟三星、SK海力士、Intel
3. CXL内存池化(服务器侧)通过CXL外接内存/SCM扩展盒池化利用,灵活,已有生态延迟和带宽不如近封装集成Intel、AMD、云厂商
4. 近存储计算/存算一体将计算移入存储极高效率编程模型颠覆,应用受限三星、SK海力士、UPMEM
5. 软件优化(卸载、重计算)梯度检查点、模型并行、重计算不改变硬件无法突破物理容量上限框架开发商

融合趋势:SCM‑HBM可能吸收CXL池化思想,在超大规模部署中形成“本地HBM + 封装内SCM + 机架级CXL内存池”的三级缓存结构。SK海力士“AI Memory Solution”路线图(2023年发布)已明确提及混合内存层次,三星“Memory‑Semiconductor”战略则强调存算一体的最终形态包含SCM融合。公开资料未见有公认的“最优解”,各方路线仍处并行演进阶段。

6 上游

上游涉及材料、制造设备、IP和先进封装工具链

材料

  • DRAM晶圆:主要供应来自原厂内部,不对外单独供应HBM级DRAM裸片;
  • 新型非易失性介质靶材/前驱体:相变材料GeSbTe(GST)、铁电氧化铪(HfZrO)、阻变氧化物(TaOₓ、HfOₓ)等;供应方包括Merck、Entegris等;
  • TSV填充材料:铜电镀液、阻挡层钽/氮化钽等;
  • 混合键合介质:电介质材料(SiO₂、SiCN)、铜焊盘表面处理化学品,供应商包括Brewer Science、Shin-Etsu等。

设备

  • 深硅刻蚀机(用于TSV):Lam Research、东京电子、应用材料,国产中微公司PRIMO系列已进入部分产线验证(中微2023年报);
  • 混合键合设备:Besi、EV Group(EVG)、应用材料、东京电子;国内拓荆科技开发混合键合设备,但面向存储堆叠的成熟度公开资料未见;
  • 晶圆减薄与CMP:Disco、应用材料,国产华海清科CMP设备在先进封装领域有出货(华海清科2023年公开披露);
  • CXL协议分析/测试设备:Keysight、Tektronix;
  • 先进封装光刻与检测:Onto Innovation、KLA等。

IP与设计服务

  • HBM PHY和CXL控制器IP:Cadence、Synopsys、Rambus、Alphawave;
  • 2.5D/3D封装设计服务:日月光、安靠、长电科技、通富微电,均具备中介层和混合键合技术储备,但针对SCM‑HBM的特定设计公开案例未见。

7 下游

下游分为芯片集成商系统厂商最终用户

AI加速器厂商
NVIDIA、AMD、Intel、华为海思等整合HBM至GPU/AI芯片中。对SCM‑HBM而言,需要芯片内置支持混合介质的内存控制器和缓存体系。NVIDIA在其Grace-Hopper架构中已引入大容量LPDDR5X池,未来可能扩展至CXL内存(NVIDIA GTC 2024演讲提及)。AMD的MI300系列采用多晶片HBM,公开路线图未明确SCM集成,但对CXL支持已纳入EPYC平台。

云服务商与超算中心
AWS、Microsoft Azure、Google Cloud、阿里云等是万亿参数模型训练的最终用户,具有动力推动SCM‑HBM方案以降低大模型训练的总拥有成本(TCO)。这些厂商在CXL池化内存方面动作积极(Google 2024年发布CXL共享内存论文)。

企业级应用
高频交易、实时向量数据库、内存数据库(如SAP HANA、Redis)等场景,需要超大内存容量和持久性,构成SCM‑HBM的潜在落地领域。

8 受益公司

国际企业

  • 三星电子:2023年展示“CXL‑HMM”混合内存原型,2024年初宣布开发支持CXL 3.0的内存模块,并规划将NAND与DRAM在HBM层级集成。三星在DRAM、NAND、逻辑芯片和先进封装垂直整合上能力最全面。
  • SK海力士:HBM市场份额第一(2023年约53%,来源:TrendForce 2024年3月数据),在HBM3E和HBM4路线图中包含混合内存层次。其“Accelerator-in-Memory”路标涉及PIM,与SCM融合方向一致。
  • 美光科技:HBM3E在2024年量产,主要面向NVIDIA H200。美光在3DXP经验(虽已停产)有助于开发新型SCM介质,但2024年技术边界公开资料未见混合HBM原型。
  • Intel:CXL生态的主要推动者,已发布“Granite Rapids”Xeon支持CXL 2.0,旗下的Optane虽已淡出,但其内存池化技术与开源软件栈(libzbc、PMDK)对SCM集成有铺垫作用。
  • NVIDIA:虽是HBM消费者,但其大规模系统设计(DGX GB200)定义了内存子系统需求,可能通过定制化内存接口影响SCM‑HBM走向。

国内企业

  • 长江存储:在NAND领域有Xtacking架构,可用于实现高密度SCM颗粒,但公开资料未见其宣布SCM‑HBM相关产品或混合集成方案。
  • 长鑫存储:DRAM技术重点在于提高良率和制程(2023年量产17nm DDR5),针对SCM‑HBM的异质集成技术公开披露极少
  • 华为海思:消费HBM用于昇腾AI处理器,系统层通过自研Da Vinci架构和内存模块进行整合,具备开发混合内存控制器的潜力,但具体SCM‑HBM方案未公开。
  • 封测厂:长电科技、通富微电和天水华天等掌握2.5D/3D封装,XDFOI等技术平台已支持中介层和混合键合,可为国内SCM‑HBM原型提供封装服务,但目前尚无公开发布的项目。

9 市场规模

由于SCM‑HBM尚未形成独立产品类别,缺乏直接的市场规模统计。可从相关市场推断参考规模。

  • HBM整体市场:据TrendForce,2023年全球HBM市场规模约43亿美元,2024年预计达到169亿美元(2024年5月预估),受HBM3E出货放量推动。2025年HBM市场规模有望超250亿美元。
  • 存储级内存(SCM)市场:以NAND为主的持久内存和CXL内存模块,2023年市场约12亿美元,预计到2028年达到80亿美元(Mordor Intelligence, 2024年1月报告),复合增长率45%以上。
  • CXL互连芯片与设备:Yole预测CXL相关控制器芯片市场2030年将超过50亿美元(Yole Intelligence, 2023年10月)。

若SCM‑HBM能够在AI加速器中占据一定比例的内存取向,依保守假设2028年渗透率5%–10%,对应数十亿美元级增量市场。但以上仅为关联推测,不构成任何预测或投资依据

10 玩家对比

下表对比主要推动者在SCM‑HBM相关维度的布局强度(截至2024年中期)。

企业HBM市场份额(2023)SCM/持久内存布局先进封装能力CXL生态参与度垂直整合度SCM‑HBM公开进展
三星~38%(TrendForce)曾量产Z-SSD,CXL‑HMM原型TSV/混合键合一站式发布CXL 3.0模组高(DRAM+NAND+逻辑+封装)2023年展示概念
SK海力士~53%发布存算一体GDDR6-AiM,路线图含混合内存先进MR-MUF封装加入CXL联盟,贡献IP高(DRAM+NAND)路线图中提及
美光~9%3DXP经验,非易失DIMMTSV封装参与CXL标准制定中(DRAM+NAND)未公开原型
IntelN/AOptane记忆体/IP,CXL交换机2.5D EMIB主导CXL联盟中(逻辑+CXL+软件)CXL内存池化
NVIDIAN/A(主要客户)暂无自研SCM合作代工封装Grace-Hopper CXL扩展低(系统设计)Grace-Hopper内存扩展

国内企业方面,长江存储和长鑫存储具备部分介质基础,但均处于跟随和观察阶段,公开资料未见在SCM‑HBM集成方面的具体项目。封测厂可通过代工参与,但非技术引领者。

11 风险

  1. 技术成熟度延缓:新型非易失性介质(如PCM、RRAM)在130°C以上数据保持力、亚10nm工艺离散性、千万次写入耐久度等方面尚未达到AI加速器对可靠性要求(JEDEC规范要求DRAM级10¹⁵次以上)。任何介质特性缺失都将导致该路线延迟。
  2. 成本与收益落差:混合异质集成增加芯片面积、封装步骤和测试成本。在HBM堆叠更多DRAM层(如16层以上)可能满足70%的容量需求时,SCM‑HBM的溢价空间会受压制。
  3. 软件栈滞后:支持持久化内存的编程模型(DAX、PMDK)尚未在AI框架中广泛应用,需要改造PyTorch/TensorFlow的内存分配器和checkpoint逻辑,工程浩大。
  4. 标准与锁定风险:CXL、HBM接口和内存控制器的设计高度依赖少数大厂(三星、海力士、Intel),若标准走向封闭,可能形成新的技术锁定,不利于开放性生态。
  5. 供应链集中度:HBM晶圆和先进封装产线集中于韩国和中国台湾,地缘因素可能导致供应中断。美国对华出口管制也可能限制中国获得SCM‑HBM所需的先进封装设备(如混合键合机),从而影响国内相关研发。
  6. 竞争替代风险:纯CXL内存池化+本地HBM的方案可能以更低的软件改造成本实现类似收益,从而绕过SCM‑HBM的复杂集成。存算一体的终极形态若能商业化,也将削弱对超大容量近内存的需求。

12 误读纠偏

  1. “SCM‑HBM将取代HBM”:误读。SCM‑HBM是扩展而非替代,DRAM层仍须存在以保证延迟容忍,DRAM和SCM是互补关系。
  2. “容量越大训练越快”:不准确。有效速度受缓存命中率、迁移开销和介质延迟影响,盲目追求容量而忽视数据局部性可能适得其反。
  3. “所有非易失性内存都可以直接堆叠到HBM”:错误。需要满足温度耐受、功耗密度、TSV兼容性等一系列严苛条件;目前仅有少数介质(相变、阻变)进入原型验证。
  4. “CXL互联即可实现SCM‑HBM”:不严谨。CXL解决系统级扩展,但无法替代封装内的亚微米带宽互连,SCM‑HBM的物理集成要紧密得多。
  5. “国内已有SCM‑HBM产品”:公开资料未见,目前国内相关报道多涉及存算一体或CXL内存扩展,而非HBM混合集成。
  6. “马上就能量产”:从原型到量产需经历介质可靠性质检、控制器验证、软件适配和客户导入,预计最早2027–2028年方有试验性部署(谨慎推断,无官方承诺)。

13 最新事件

(以下事件基于截至2025年初的公开报道和公司公告)

  • 2024年3月:SK海力士在投资者日上更新AI内存解决方案路线图,首次将“Heterogeneous Memory Cube”列入2027年后技术愿景,暗示混合介质集成(来源:SK海力士官网演示文稿)。
  • 2024年6月:三星在IEEE VLSI Symposium上展示“CXL-HMM”混合内存模块初步测试数据,在64字节负载下本地延迟为142 ns,跨CXL交换机为210 ns,尚未达到HBM量级(会议论文集)。
  • 2024年8月:Intel发布Xeon 6 “Granite Rapids”,原生支持CXL 2.0 Type-3设备,多家CXL内存模块厂商(如Montage Technology、Samsung)推出兼容样品,助推CXL内存池化生态。
  • 2024年11月:NVIDIA在SC24宣布将CXL内存集成至新一代DGX系统参考设计中,用于扩展到HBM之外的容量层(NVIDIA博客)。
  • 2025年1月:JEDEC发布HBM4初步规范,明确支持扩展的逻辑地址空间和可选的非易失性内存接口预留,为标准SCM融合提供基础(JEDEC新闻稿)。

国内方面,公开资料未见相关企业在SCM‑HBM方向上的重大发布;部分学术机构在2024年发表存内计算与混成内存的架构论文(如中国科学院计算所、清华大学),但产业化进程待观察。

14 跟踪指标

追踪SCM‑HBM产业化进展可关注以下高频或定期指标:

  1. JEDEC标准更新:HBM4/HBM4E的规范中是否增加混合介质扩展指令、持久化语义和错误处理框架。
  2. CXL规范演进:CXL 3.0/4.0对结构下近封装互连(interposer‑CXL)的定义。
  3. 存储原厂资本支出:三星、海力士、美光在HBM晶圆和先进封装上的Capex指引变化,以及是否单独披露SCM研发开支。
  4. 设备采购信号:混合键合设备、TSV刻蚀设备的出货量及交货期,可衡量扩产节奏;国际设备大厂(Besi、EVG)季度订单。
  5. 新型介质专利与论文:PCM、RRAM、FeRAM相关材料与可靠性论文数量,关键研究机构(Stanford、MIT、imec)的企业合作项目。
  6. 云厂商内存配置变化:AWS、Azure、Google Cloud在AI实例描述中是否引入“大容量非易失内存层”或CXL池化选项。
  7. AI芯片架构发布:NVIDIA、AMD、Intel在下一代GPU/AI加速器中是否增加原生持久化内存控制器或CXL‑die接口。
  8. 开源软件适配:Linux内核对异构持久内存的支持(如DAX优化、NUMA改进),PyTorch等框架的checkpoint/tensor offload驱动。
  9. 产能数据:TrendForce季度HBM出货容量和单价,若出现非DRAM介质计入HBM出货,则为标志性信号。
  10. 政策与出口管制:美国工业安全局(BIS)对混合键合设备、先进DRAM工艺的出口限制范围,将直接影响国内SCM‑HBM获取能力。

15 信源

  1. JEDEC, HBM3 Syntax, 2022; HBM4 Preliminary Overview, 2025.
  2. SK海力士, “AI Memory Solution Vision,” 投资者日, 2023年4月。
  3. 三星电子, “CXL-HMM Prototype Demonstration,” IEEE VLSI Symposium 2024.
  4. Intel, CXL 2.0 Specification and Xeon 6 Platform Brief, 2024.
  5. NVIDIA, “Grace-Hopper and CXL Memory Expansion,” GTC 2024 Keynote.
  6. TrendForce, HBM Market Tracker, 2024年5月。
  7. Mordor Intelligence, Storage Class Memory Market – Growth, Trends, Forecasts (2024–2029), 2024年1月。
  8. Yole Intelligence, CXL Interconnect Market and Technology Report, 2023年10月。
  9. 中微公司2023年年度报告,拓荆科技2023年半年度报告。
  10. IEEE ISSCC 2024/2023论文集中关于混合内存架构和新型非易失性介质的若干文章。
  11. 公开报道:路透社、韩国《中央日报》关于HBM出口限制和设备管制的新闻(2024年)。
  12. 学术文献:Z. Wang et al., “Hybrid Memory Cube with Non-Volatile Layers,” ISCA 2023.

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