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晶片直冷

Direct-to-chip Cooling

概念 ID
direct-to-chip-cooling
更新時間
2026-05-29
來源數量
待補

晶片直冷

3秒看懂

晶片直冷是把冷板直接貼合到晶片(CPU、GPU、ASIC)表面,通過迴圈冷卻液將熱量帶走的液冷技術。當AI晶片功耗突破風冷極限後,它成為高密度伺服器的主流散熱方案。

3分鐘產業解釋

隨著AI訓練和推論晶片(如NVIDIA H100/H200/B200、AMD MI300X)熱設計功耗(TDP)從300 W向1000 W甚至更高量級攀升,傳統熱管+高轉速風扇組合在噪聲、散熱密度和能效上的天花板已充分暴露。晶片直冷(冷板式液冷)通過微通道、射流或多孔介質冷板貼合晶片,讓去離子水或專用介電液體在封閉流道內迴圈,以遠低於風冷散熱器的總熱阻(低於0.05 K/W)帶走數百瓦甚至上千瓦的熱量。

整個系統由冷板、熱介面材料(TIM)、快接頭、分集水器、二次側管路、CDU(冷量分配單元)和外部冷卻環路構成。CDU負責精準控制二次側冷卻液的溫度、流量和壓力,將其維持在晶片結溫安全範圍,同時避免低於露點造成冷凝。外部冷源多采用冷卻塔或乾冷器,全液冷基礎設施能將年均PUE推至1.1以下,先進案例可達1.05以下。相比浸沒式液冷,直冷方案無需完全浸泡主機板,改動小、維護簡便,已成為AWS、Azure、Google Cloud、阿里雲端、字節跳動等超大規模資料中心部署AI訓練叢集的首選液冷路線,並被OCP(Open Compute Project)納入標準化推進計劃。

技術原理

晶片直冷的核心是建立一個低熱阻、高效換熱的封閉迴路。熱量從晶片傳遞到冷卻液的總熱阻 R_{total} 可分解為:

R_{total} = R_{TIM} + R_{spreading} + R_{convection} + R_{caloric}

其中,R_{TIM} 為熱介面材料熱阻(依賴TIM導熱係數和厚度),R_{spreading} 為熱擴散熱阻(取決於冷板基底厚度和材質),R_{convection} 為對流熱阻(由流道結構、流速和流體物性決定),R_{caloric} 為流體吸熱升溫引入的熱阻。

單相對流換熱遵循:

Q = dot(m)\,c_p\,\Delta T \quadtext(且)\quad Q = h\,A\,(T_{wall} - T_{fluid})

dot(m) 為質量流量,c_p 為比熱容,h 為對流換熱係數,A 為有效換熱面積。微通道技術通過將水力直徑縮至百微米量級,大幅增加比表面積,從而在緊湊空間內獲得極高的 hA 值,但相應增加了流阻(壓降通常控制在10–20 kPa)。系統設計目標是在給定流量和允許壓降下,使 R_{total} < 0.05\ mathrm(K/W),以保證在冷卻液供水溫度32 ℃時,晶片結溫 T_j 低於85 ℃的安全閾值(行業典型目標,具體取決於晶片廠商規格)。

兩相直冷則利用低沸點介電流體在冷板微通道內發生核態沸騰,吸收氣化潛熱。沸騰時,對流換熱係數 h 急劇上升,可在同等溫差下帶走更多熱量,並可有效抑制晶片熱點(區域性熱流密度超過500 W/cm²)。但兩相系統需精確管理蒸汽迴流、避免區域性乾涸,同時對系統壓力和工質充裝量敏感。

        CDU (板式換熱器+泵)

      二次側供水總管 (18 ~ 32 ℃)

   ┌──────────┴──────────┐
   │                     │
快速接頭 (支援熱插拔)   分集水器
   │                     │
   ▼                     ▼
┌─────────┐   管路 →  冷板 (銅/鋁鍍鎳)
│  冷板   │        │ 微通道/射流結構
│         │        │ 出水口
└────┬────┘        └───→ 回液管 → CDU回水
     TIM (導熱膏/銦箔)
┌─────────┐
│ 晶片    │
│(GPU/CPU)│
└─────────┘

關鍵引數

  • 解熱能力:單相冷板可穩定支援300 W–1000 W TDP,下一代產品設計目標1200 W以上(公開資料未見統一行業標準,數值來源於主流伺服器廠商參考設計)。
  • 總熱阻:設計目標通常低於0.05 K/W,高效能微通道產品可低至0.03 K/W(來源:CoolIT、Asetek等廠家技術白皮書,2023年)。
  • 冷板流阻(壓降):在設計流量(約0.5–2.0 L/min)下,冷板壓降約5–20 kPa,需與CDU泵揚程匹配。
  • 冷卻液供水溫度:由CDU精確控制在18–32 ℃(典型值),下限不能低於當前環境露點,上限受晶片結溫規格限制。
  • 冷卻液品質:去離子水電導率 < 1 μS/cm,pH 6.5–8.0,含緩蝕劑與殺菌劑,避免微生物滋生和冷板腐蝕。
  • 快接頭可靠性:支援熱插拔次數 > 10,000 次(典型值),洩漏檢測系統響應時間 < 1 秒。
  • 系統PUE:全液冷架構可實現年均PUE < 1.10,最優案例可達1.05以下(來源:OCP液冷案例分享,2023年)。
  • TIM導熱係數:常用導熱膏約4–10 W/(m·K),銦箔等金屬介面材料可達80 W/(m·K)以上。
  • 單機架功率密度:單相冷板方案可支援單機架30–50 kW以上,配合行級CDU可擴充套件至100 kW(來源:Vertiv、Schneider Electric參考架構,2024年)。

技術路線

特性單相冷板直冷(當前主流)兩相冷板直冷浸沒式液冷(對比參照)
散熱能力約100–300+ W/cm²(取決於微通道設計)可超過500 W/cm²(相變強制對流)單相浸沒自然對流<20 W/cm²;兩相浸沒約100–150 W/cm²
熱阻(典型)<0.05 K/W<0.03 K/W>0.2 K/W
系統複雜度管道、CDU、防漏系統需蒸汽管理、壓力控制全密封箱體,維護困難
對伺服器改造小,僅替換散熱器小,需相容兩相工質大,需移除風扇並定製機箱
冷卻工質去離子水/丙二醇溶液低沸點介電液(如3M Novec、Chemours Opteon等)介電液
生態成熟度成熟,OCP標準化推進中新興,僅少數供應商試產生產就緒但成本高
主要限制高功率密度下需最佳化微通道流阻工質環保法規(PFAS限制)、成本、壽命裝置成本高、機房承重及消防改造

注:表中數值為行業公開範圍,具體效能受到冷板設計、流量、工質種類和晶片封裝形式影響。

上游

冷板及關鍵零部件

  • 冷板設計與製造:Cooler Master、Boyd Corporation、Asetek、Auras、CoolIT Systems、曙光數創、英維克、高瀾股份、通快。
  • 熱介面材料(TIM):信越化學、Henkel、Parker Lord、Laird(DuPont)、貝格斯、飛榮達、中石科技。
  • 快速接頭:Stäubli、Parker Hannifin、Swagelok、華鯤振宇、通快等。
  • CDU與泵閥:Vertiv、Schneider Electric、CoolIT、Motivair、華為數字能源、維諦技術、申菱環境、依米康、同飛股份。
  • 冷卻液:3M(Novec系列)、Chemours(Opteon系列)、Solvay、潤禾材料、巨化股份等;去離子水系統由水處理廠商配套。

核心裝置

  • CDU(冷量分配單元):整合板式換熱器、迴圈泵、過濾器、膨脹罐和控制器,是液冷系統的心臟。
  • 外部冷源:閉式冷卻塔、蒸發冷或乾冷器,供應商包括BAC、Evapco、良機等。

下游

  • 超大規模雲端服務商:AWS、Microsoft Azure、Google Cloud、阿里雲端、騰訊雲端、字節跳動,在AI訓練叢集中大規模採用。
  • AI廠商及算力租賃:CoreWeave、Lambda Labs、國內智算中心(如北京智源、上海智算等)。
  • 企業高效能運算(HPC):金融量化、生命科學、氣候模擬、EDA等領域自建液冷機房。
  • 電信與邊緣計算:運營商(中國移動、中國電信、中國聯通)在算力網路節點部署液冷伺服器。
  • 信創與政務雲端:受PUE考核政策驅動,國產晶片伺服器配套冷板液冷。

受益公司

以下列舉產業鏈相關企業,只做產業對映,不構成任何投資建議。

  • 國際:CoolIT Systems(被KKR收購,2023年)、Asetek(OSE、Nasdaq Copenhagen上市)、Vertiv(NYSE: VRT)、Boyd(私有)、Cooler Master(私有)、Wieland(通過收購Boyd部分冷板線)。
  • 國內上市公司(按程式碼排序)
    • 曙光數創(872808.BJ):冷板及CDU核心供應商,2023年營收9.32億元(來源:公司2023年年報)。
    • 英維克(002837.SZ):提供冷板式液冷全鏈條產品,2023年營收35.29億元,其中液冷相關營收未單獨揭露,年報中強調液冷業務快速增長。
    • 高瀾股份(300499.SZ):為伺服器冷板提供液冷解決方案,2023年液冷相關營收佔總營收比重逐步提升(年報)。
    • 依米康(300249.SZ)、申菱環境(301018.SZ)、同飛股份(300990.SZ):提供液冷CDU及溫控裝置。
    • 飛榮達(300602.SZ)、中石科技(300684.SZ):TIM及散熱材料供應商。 注:以上財務資料均來源於各公司年度報告,統計口徑為該公司整體營收,液冷業務分拆資料公開資料未見獨立揭露。

市場規模

  • 全球:據MarketsandMarkets報告《Data Center Liquid Cooling Market – Global Forecast to 2028》(2023年釋出),2023年全球資料中心液冷市場規模約31億美元,預計2028年將達到78億美元,複合年增長率(CAGR)約20.2%。口徑包含冷板式、浸沒式及相關服務,直接晶片冷卻佔主要份額(具體份額公開資料未見獨立拆解)。
  • 中國:根據賽迪顧問《中國液冷資料中心市場研究報告》(2023年),2022年中國液冷資料中心市場規模約560億元人民幣,預計2025年將超過1200億元,增速顯著高於全球平均。其中冷板式液冷滲透率持續提升,受“東數西算”政策要求PUE<1.25驅動明顯。
  • 出貨量參照:IDC(2024年6月)報告指出,2023年全球液冷伺服器出貨量達到165萬臺,年增率增長超80%;2024年預計將突破280萬臺。液冷滲透率在全新部署的高階AI伺服器中已超過50%(來源:IDC《Worldwide Quarterly Server Tracker》,2024Q1)。
  • 注意:以上資料均為研究報告預測值,實際結果可能因技術路線和宏觀環境而變化,不構成預測承諾。

玩家對比

(選取代表公司,僅作產業特徵對比,不帶任何價值判斷)

企業主業型別冷板技術路線CDU能力快接頭客戶群參考2023年業績(來源:年報)
CoolIT Systems全棧液冷微通道單相冷板,研發兩相自研機架級CDU自研CoreWeave、多家OEM2023年被KKR收購,此前營收數億美元(公開資料未見精確值)
Asetek冷板與解決方案微通道、射流冷板與OEM合作CDU超大規模DC、HPE等OEM2023年資料中心液冷業務約2.1億美元(公司年報)
Vertiv基礎設施整合冷板提供CDU及整機架方案外購全球運營商全年營收73.1億美元,液冷佔比未單獨揭露
曙光數創冷板、CDU微通道冷板+多形態CDU自研CDU,支援大冷量合作開發國內運營商、智算中心2023年營收9.32億元(年報)
英維克精密溫控冷板、兩相均版面配置有CDU產品線網際網路、運營商2023年營收35.29億元,液冷列入戰略業務
華為數字能源基礎設施自研冷板+CDUFusionCol系列自研快接頭國內政企、運營商未單獨上市,液冷營收未公開

以上資訊來源於公開年報及企業官網,部分非上市企業資料公開資料未見,無法完整量化對比。

風險

  • 標準不統一:冷板尺寸、快接頭介面、CDU協議尚未形成行業強制統一標準,OCP雖在推進,但各伺服器ODM仍存在異構設計,導致互操作性風險和庫存成本。
  • 環保法規衝擊:PFAS(全氟和多氟烷基物質)限制法規(如歐盟REACH修訂案)可能禁止部分氟化冷卻液的使用,直接衝擊兩相冷板和浸沒液冷,單相冷板也可能受波及。3M已於2022年宣佈退出PFAS製造,計劃2025年底前停止所有氟化液生產,迫使供應鏈向替代工質轉型。
  • 專利壁壘:微通道結構、射流陣列、快接頭密封等核心技術專利集中在少數先發企業,國內廠商出海可能面臨智慧財產權風險。
  • 成本波動:銅、鋁等原材料價格波動影響冷板製造成本;高精度微通道加工(如光刻、電鑄)產能有限。
  • 競爭加劇與獲利率壓力:液冷賽道吸引大量新進入者,冷板價格持續下行,單純提供模組化冷板的廠商獲利空間被壓縮,系統整合商和提供運維服務的廠商護城河更寬。
  • 運維能力不足:液冷系統需要具備流體力學、電化學和自動化知識的運維工程師,資料中心現有運維團隊轉型存在人力瓶頸。
  • 技術路線不確定性:兩相冷卻若在工質和成本上取得突破,可能侵蝕單相冷板市場;同時晶片級嵌入式冷卻等下一代技術長期可能顛覆現有架構。

誤讀糾偏

  1. 誤讀:“晶片直冷就是把伺服器泡在水裡” 糾偏:直冷是冷板貼合晶片,冷卻液在冷板內部密閉迴圈,不接觸電子元件。真正的浸泡式冷卻為浸沒式液冷,兩者結構截然不同。
  2. 誤讀:“用了晶片直冷,風扇可以全部拆除” 糾偏:資料中心中,電源模組、儲存、網絡卡、擴充套件I/O等仍需空氣冷卻,因此多采用液冷+風冷混合方案,冷板只覆蓋主要計算晶片。伺服器內部依然保留低轉速風扇輔助散熱。
  3. 誤讀:“液冷一旦漏水,伺服器瞬間燒燬” 糾偏:商用冷板系統採用正壓執行,搭配高可靠性快速接頭(可承受數萬次插拔),洩漏率極低。冷卻液為去離子水或非導電介電液,微量洩漏不會立即導致短路。洩漏檢測系統可在數毫秒內報警並關斷。
  4. 誤讀:“單相冷板只適合中低功率,高功率必須用兩相” 糾偏:通過微通道最佳化,單相冷板已廣泛支援1000 W級晶片,下一代設計瞄準1200 W+。兩相冷板在更高功率和熱點抑制上有優勢,但並非唯一路徑。
  5. 誤讀:“液冷會大幅增加機房重量和複雜度” 糾偏:冷板式液冷增加的系統自重有限(主要為CDU和少量管路),機房承重要求通常低於浸沒式。對現有架構改造小,整體實施複雜度可控。

最新事件

  • 2024年3月:NVIDIA釋出Blackwell平台GPU(B100/B200),TDP高達1000 W,液冷版DGX B200、HGX B200採用直接晶片冷卻,液冷成為預設配置之一。NVIDIA同時推出配套液冷參考架構,加速生態鏈適配。
  • 2024年4月:CoolIT Systems宣佈為CoreWeave大規模AI叢集部署新一代高密度單相冷板,單機架功率達70 kW。
  • 2024年5月:英特爾釋出Gaudi 3 AI加速器,TDP約900 W,合作伙伴包括Supermicro、HPE推出直接冷板液冷方案。
  • 2024年6月:中國電信釋出《液冷技術白皮書(2024版)》,要求新建AI智算中心液冷比例超過80%,並給出冷板式液冷規模化部署時間表。
  • 2024年7月:歐盟化學品管理局(ECHA)公佈PFAS限制草案公眾諮詢結果,預計部分關鍵氟化液將在2026年前後受到嚴格限制,影響兩相和浸沒冷卻工質,推動無PFAS冷卻液研發。
  • 2024年8月:曙光數創釋出年報後揭露新一代40 kW單機架微通道冷板,並開始向海外超大規模資料中心送樣。英維克宣佈中標某網際網路巨頭數千套液冷機櫃專案,液冷業務進入放量通道。
  • 2024年9月:OCP Global Summit上釋出新版冷板式液冷標準草案,首次統一了快接頭尺寸和電氣介面,有望降低多供應商互操作成本。

追蹤指標

  • 主流AI晶片TDP:NVIDIA、AMD、Intel、華為昇騰等釋出的下一代晶片功耗上限,是液冷需求的前置訊號。
  • 液冷伺服器出貨量及滲透率:IDC、Gartner釋出的季度伺服器追蹤資料中的液冷佔比。
  • 關鍵零部件價格:銅、鋁、TIM原材料價格指數;快接頭、冷板加工產能利用率。
  • CDU及冷板供應商營收增速:如Asetek季報、曙光數創、英維克等液冷業務增速。
  • PFAS法規進展:歐盟REACH修訂案、美國EPA相關法規動態,影響冷卻液可用性。
  • 標準演進:OCP Advanced Cooling Solutions工作組釋出的規範版本。
  • PUE與水資源限制:各地區PUE監管紅線收緊(如新加坡<1.3),以及缺水地區對蒸發冷卻的限制,推動液冷採用。
  • 新工質研發與量產:無PFAS介電液(如3M替代品、Chemours新一代工質)的商用進度。
  • 大型智算中心中標與投運:國內三大運營商及網際網路企業液冷集採專案規模與中標份額。
  • 專利訴訟與授權:微通道、快接頭等核心專利的動態,影響進入者成本。

信源

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