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插入損耗

Insertion Loss

概念 ID
insertion-loss
更新時間
2026-05-29
來源數量
待補

插入損耗

3秒看懂

插入損耗(Insertion Loss, IL)是訊號通過一個網路、器件或傳輸媒介時,因該元件的介入而導致的功率損耗。在鏈路預算中,它是最基本的減值項——每增加1dB插入損耗,鏈路的有效訊號功率就直接降低1dB

在AI硬體語境下,插入損耗直接影響從晶片到晶片、從板卡到背板、從機櫃到機櫃的訊號完整性。PCIe 5.0/6.0、SerDes、112G/224G PAM4高速鏈路、光模組互聯——這些場景對插入損耗的容忍度已進入“零點幾分貝”量級。

核心公式極簡: IL(dB) = -10 × log₁₀(P_out / P_in),對於理想無源器件,IL > 0 dB。

3分鐘產業解釋

對於AI/高效能運算硬體工程師而言,插入損耗不是抽象的電磁場方程,而是鏈路預算表裡每天都在跟的那一行紅線

為什麼它如此致命?

AI算力系統的三個趨勢同時將插入損耗推向極限:

  1. 速率飆升:從PCIe 4.0的16GT/s到PCIe 6.0的64GT/s,PAM4調變使得訊號眼圖高度本身就比NRZ塌縮了約三分之二,同等插入損耗下眼圖閉合速度急劇加快。

  2. 密度暴增:GPU核數從8卡到72卡(Megatron/NVL72),互聯拓撲越來越龐大,訊號走的路徑越來越長——多一級聯結器、多一段PCB走線、多一個過孔,插入損耗都在累加。

  3. 功率約束收緊:HBM/ASIC密集整合使單卡供電壓力巨大,鏈路端沒有餘量去補償高損耗,必須從源頭——材料和架構——把IL壓下來。

產業現實:當112Gbps PAM4訊號經過15英寸FR4級PCB走線時,基材本身就能吃掉十幾甚至幾十dB的損耗。這意味著如果不換介質,訊號到達接收端時已無法識別。這就是為什麼你看到M8級覆銅板、背鑽工藝、Retimer/Redriver晶片、甚至共封裝光學(CPO)的加速落地——所有技術路線的博弈,本質上都在回答同一個問題:在給定成本下,能把插入損耗做到多低?

從投資視角看,插入損耗是衡量高速互聯方案是否成立的“一票否決項”。任何號稱能支援新一代AI交換架構的方案,如果IL預算算不過來,基本上就是技術死衚衕。

15分鐘專家深入

插入損耗的物理本質

在傳輸線理論中,插入損耗的來源可拆解為四個獨立的物理機制。對於AI硬體鏈路(PCB走線、線纜、聯結器、矽中介層),這四個機制的權重隨頻率劇烈變化:

導體損耗(趨膚效應主導) 高頻電流只沿導體表面一薄層流動,有效導電截面積隨頻率的平方根增長而收縮,電阻隨之升高。這部分損耗正比於√f。在AI硬體所用的112G/224G PAM4頻段(基頻28GHz/56GHz的Nyquist頻率處),趨膚深度已淺至亞微米級,導體表面粗糙度若和趨膚深度可比,電流“爬山”效應會進一步惡化損耗——這就是為什麼高階板材要求銅箔表面粗糙度RMS控制在微米甚至亞微米級。

介質損耗(極化滯後主導) 交變電場下介質材料的極化無法立即跟隨電場變化,產生能量耗散。這部分損耗正比於f×tanδ×√ε_r。傳統FR-4的損耗角正切tanδ約0.02-0.025,而M8級高速板材可降至0.002以下。44GHz以上,介質損耗開始急劇超越導體損耗成為主導。當前AI交換器背板和GPU基板廣泛採用Megtron 8、Tachyon 100G等級別材料,本質上就是為了壓制該項。

反射損耗(阻抗不連續) 聯結器、過孔、換層、封裝過渡處產生的阻抗偏移,導致區域性反射,能量被送回來而非繼續前進。S引數上表現為回波損耗(Return Loss)惡化,最終以IL形式體現在傳輸係數上。

輻射損耗 對於非理想遮蔽結構,部分能量以電磁輻射形式逸出。AI硬體中,ASIC封裝到PCB過渡區、高密度聯結器未遮蔽部位、長線纜等場景需要關注輻射對IL的附加貢獻。

鏈路預算中的定位

用訊號鏈思維看:發射端輸出功率 - 插入損耗 = 接收端可達訊號強度。接收端的靈敏度是硬基線,若經IL衰減後的訊號低於靈敏度,鏈路失鎖。

以224G PAM4鏈路為例([一般原理推算,非特定產品]):

  • 發射端差動輸出擺幅約600-800mVppd
  • 接收端需保證眼圖張開度、訊雜比滿足誤位元速率門限(典型前向糾錯誤位元速率門限在1E-4至2E-4量級)
  • 鏈路總插損預算大致在25-35dB區間(取決於接收端均衡能力)
  • 此預算需分配給PCB主走線(通常最大頭)、封裝、聯結器、過孔、線纜——這是整個訊號完整性團隊的死命令

一旦預算被突破,補救措施只有三種方向:①換更低損耗介質(貴)、②加Retimer/Redriver(增功耗、佔面積、加latency)、③走光(CPO等架構,顛覆性大但複雜度鉅變)。

技術原理(最深)

從二埠網路到S引數

插入損耗的嚴格定義為:在源和內阻匹配條件下,插入一個二埠網路前後,傳輸到負載的功率之比(以dB計)。

        插入前(直通)
   Z_s         Z_L
    ──═══──────═══──
         P_L0

        插入後
   Z_s   [N]   Z_L
    ──═══─│─═══──
         P_L

IL(dB) = -10log₁₀(P_L / P_L0) = -20log₁₀|S21| (當源和負載均為Z_0匹配時)

注意:這個定義已經將回波損耗的影響“消化”進IL中——因為P_L的減少有兩個歸因:一是網路自身消耗的能量(轉為熱),二是因埠失配反射回來的能量。工程上通常直接用|S21|作為IL。

互連鏈路IL的頻域級聯

高速鏈路通常被建模為多個二埠的級聯:

S21_total(f) = S21_封裝(f) × S21_PCB走線(f) × S21_聯結器(f) × …

以dB為單位則為各段IL相加:

IL_total(f) = IL_封裝(f) + IL_PCB走線(f) + IL_聯結器(f) + …

PCB傳輸線IL的工程近似模型

對於AI硬體中常用的一般帶狀線/微帶線,導體損耗和介質損耗有一種簡化的頻域近似:

導體損耗部分: α_c(f) ≈ (R_s / Z_0) × 常數,其中R_s為表面電阻,∝ √f(趨膚效應區)

介質損耗部分: α_d(f) = (π·f·tanδ·√ε_eff) / c

總衰減常數:α(f) ≈ α_c(f) + α_d(f)

一段長度為L的傳輸線: IL(dB) = 20log₁₀(e) × α × L ≈ 8.686 × α × L

介質損耗正比於f×L,這就是速率翻倍、鏈路長度增加後IL為何災難性飆升。

CPO為何是IL的降維打擊

在傳統可插拔光模組方案中,訊號鏈是: ASIC → 封裝 → PCB主走線 → 聯結器 → 模組內PCB → 光引擎 → 光纖

每段都貢獻IL。而CPO(共封裝光學)將光引擎直接整合到ASIC封裝基板甚至interposer上,砍掉了整個“PCB主走線+聯結器+模組內PCB”的IL貢獻。這部分在高頻段常可達10-25dB量級——直接從鏈路預算中消失

CPO的成本與複雜度挑戰明顯,但從IL角度看,它的物理邏輯無懈可擊:讓光電轉換緊貼算力,消除最長的銅損耗路徑。

技術演進史

  • 早期(<1Gbps):IL不是瓶頸,前沿速率下訊號仍有充裕眼圖裕度,FR-4可從容應對。
  • 10G NRZ時代:第一波“材料革命”,低損耗FR-4改進型出現,趨膚效應和介質損耗開始被重視,聯結器IL指標精細化。
  • 50G PAM4(IEEE 802.3 200GBASE時代):PAM4調變使IL預算極度緊張,背板/長距銅纜方案嚴重承壓,有源電纜(AEC)、板上Retimer開始規模出現。M8級板材成高階標配。
  • 112G PAM4(當前主流):IL預算全面極限化,板材從M8向更低損耗等級演進(供應商標註常比M8更好但非統一命名)。背鑽精度、過孔反焊盤最佳化成為常規操作。CPO從論文/原型走向小規模試用。
  • 224G PAM4(前沿):純銅方案只能在極短距離(如片間Die-to-Die,或板上數英寸)成立,機櫃級以上互聯向光學傾斜。IL預算問題成為推動光學下沉到機櫃內、板間甚至封裝內的核心物理驅動力。

技術路線對比(量化表)

維度傳統可插拔光模組有源銅纜(AEC)無源銅纜(DAC)板上光互聯(CPO)
IL主要貢獻段PCB走線+聯結器+模組內走線PCB走線+聯結器(Retimer晶片補償)PCB走線+聯結器+銅纜自身封裝內極短走線+光纖
高頻段IL緩解方式無,被動承擔所有段Retimer晶片在纜內對訊號均衡重塑無,純被動承受消除最長銅鏈路
功耗增量模組自身功耗Retimer功耗僅傳輸線自身損耗矽光引擎功耗(整合最佳化空間大)
成本態勢成熟,中等Retimer晶片增加BOM最低當前高昂,依賴矽光成熟度
對AI大算力叢集適用性成熟但頻寬密度和功耗瓶頸漸顯短距機櫃內過渡方案極短距離,112G以上距離受限嚴重為高頻寬密度、低IL而生的終極路徑

注:無源銅纜DAC頻寬距離積(BWP)在112G PAM4時大致在2-3米量級(具體依賴於線纜AWG與材質),224G下急劇萎縮。此為趨勢性表述,精確數字與具體產品規格強相關。

上下游

上游:材料與工藝

  • 低損耗覆銅板:松下Megtron系列、Isola Tachyon、臺光/生益科技等高速板材供應商。IL效能直接繫結其樹脂體系與銅箔粗糙度控制能力。
  • 銅箔:極低輪廓銅箔(HVLP)、甚至無輪廓銅箔是降低趨膚效應損耗的關鍵。高頻下銅箔粗糙度每劣化一微米,IL額外惡化即可量化。
  • 聯結器:安費諾、莫仕、泰科等,高速背板/板間聯結器是IL預算中的固定扣分項,其S引數精確模型對系統鏈路模擬至關重要。
  • 矽光/光引擎:CPO時代的上游核心,台積電COUPE、英特爾、博通、Marvell等版面配置。

下游:AI硬體系統

  • GPU/NPU基板:涉及Die至封裝的走線IL、封裝至PCB過渡IL。HBM整合帶來的基板複雜度推升IL控制難度。
  • AI伺服器主機板/背板:多GPU互聯拓撲(如NVLink/UALink)走線長、層數多,IL預算長期受壓。
  • 交換器:資料中心交換器SerDes鏈路,面板密度增加迫使聯結器更緊湊、走線更長,IL惡化趨勢明顯。
  • 光模組:800G/1.6T時代,模組內部從DSP到光引擎的走線IL開始成為新的瓶頸,推動光電合封在模組內的嘗試。

關鍵指標

指標含義AI硬體典型關注範圍
Insertion Loss (S21)
Return Loss (S11/
頻率依賴性IL隨f上升的斜率介質損耗主導區斜率陡峭,約正比於f
眼圖相關引數(眼高/眼寬)IL對鏈路質量的視覺化結果判決點處開眼餘量與IL直接負相關
單位長度損耗(dB/inch或dB/cm)板材/線纜的IL密度112G PAM4級板材目標在基頻處常<0.6-0.8 dB/inch [估值,具體依產品]
等效頻寬(IBIS-AM模擬架構)接收端均衡能補償的IL上限越高的均衡能力意味著能容忍更高的IL,但功耗和複雜度上升

供需與市場資料

高速低插入損耗材料與器件市場受AI基礎設施投資驅動,呈結構性增長。以下基於趨勢定性,精確量化資料在無可靠來源條件下不給出:

  • 超低損耗覆銅板:由112G/224G交換器、AI伺服器基板需求拉動,是PCB產業鏈中增長最確定的細分賽道之一。供應商擴產節奏與AI資本支出(Capex)強相關。
  • Retimer/Redriver晶片:每消除一定量的額外IL,就需要相應數量Re-timer。隨著單機GPU數量增加和連線長度需求多樣化,單機Retimer用量正快速增長,該領域由少數模擬/混合訊號巨頭(Astera Labs、譜瑞、TI等,博通亦自研整合)把持。
  • CPO相關矽光:IL問題的最終解方——CPO正從“要不要做”進入“多快做”階段。台積電COUPE平台時間節點、博通/輝達/思科等系統級CPO產品投放節奏,是追蹤CPO對IL問題“解構”速度的核心觀測點。
  • DAC/AEC線纜:224G時代,無源銅纜DAC的應用場景顯著收窄至機櫃內極短跳線,有源銅纜AEC吃到部分原DAC市場。光模組則承接長距和部分中距需求。IL的惡化速率基本決定了這三種互連形態在不同距離/速率下的版圖變化。

代表公司與資本對映

(注:以下為公司技術定位描述,非投資建議;具體產品效能引數無據不量化)

材料端

  • 松下電工/Isola:高階覆銅板頂端供應商,定義了AI硬體基板/背板的IL效能上限。
  • 臺光電子/生益科技/聯茂:國產替代梯隊,在M8等級別及以下產品線對高階需求進行滲透,成長性由高速化升級節奏決定。

晶片/器件端

  • 博通(Broadcom)/Marvell:資料中心交換晶片、PAM4 SerDes、DSP的霸主,其SerDes接收端均衡能力實質定義了鏈路能容忍多大的IL預算。
  • Astera Labs:PCIe/CXL Re-timer晶片龍頭,直接從AI伺服器內部聯接IL痛點中獲益,成交換器與線纜之外的關鍵補丁層。
  • 英特爾/輝達/AMD/思科:系統級玩家,對CPO/矽光的投資和採用進度,根本上決定了“用新材料對抗IL”和“用光學回避IL”兩條路線的商業程序。

模組與互連

  • 中際旭創/Coherent/新易盛等光模組廠:800G/1.6T時代,模組內IL控制能力是競爭力的基礎引數之一。
  • 安費諾/莫仕/泰科(Amphenol/Molex/TE):聯結器與銅纜巨擘,IL、串擾的平衡掌控是其know-how護城河。

投資邏輯

  1. IL的“稅率”屬性:速率每翻代一次,IL損耗就自然增長約3-6dB(源於介質損耗正比於頻率、導體損耗正比於根號頻率等疊加),這個缺口必須由全產業鏈用新材料和新架構來填。誰填補得快且經濟,誰就吃到升級紅利。

  2. 材料端的確定性:無論銅互連還是CPO,PCB基材在訊號進入/離開光學引擎時仍無法完全消失,超低損耗覆銅板是長期貝塔。投資關注的是:該市場本身增長(量)以及產品升級(價)帶來的價值量提升。

  3. Retimer/Redriver的“IL稅補”邏輯:它們為無法承受的IL提供“訊號修復”,用量隨互聯距離/複雜度非線性增長。注意技術迭代風險——當CPO全面下沉,部分Retimer需求可能被結構性移除,但中短期仍是增量賽道。

  4. CPO:顛覆性路徑的節奏判斷:CPO對IL的消除是物理性的,但工程挑戰和產業鏈重構巨大。投資需要觀察節奏訊號:① 輝達/博通/台積電的CPO產品正式時點;② 交換器ASIC與光引擎合封的良率突破;③ 生態對可插拔模組的路徑依賴能堅持多久。一旦某個時間點CPO方案總體成本、功耗、可靠性跨過臨界線,其對傳統互聯的顛覆將是IL問題在產業上最強的對映。

常見誤讀糾偏

誤讀1:“IL大一點沒關係,接收端均衡能補償” 糾偏:均衡器(CTLE+DFE)能補償的是通道的線性失真部分,而非將訊號從噪聲中“無源”提升。IL高意味著訊號衰減更深,在接收端疊加的鏈路噪聲(電源、串擾、熱噪等)不變的情況下,訊雜比直接惡化。均衡器每補償1dB IL,高頻噪聲實際上也會被部分放大。因此IL是根本,均衡是補救——補救有上限,降低IL才是首選

誤讀2:“IL只是一個數字,看S21就行了” 糾偏:IL的頻率相關性才是最致命的。如果一條鏈路在Nyquist頻率處IL勉強達標,但在高於Nyquist的頻段(例如諧波處)IL急劇惡化,訊號完整性仍會嚴重受損。真正決定眼圖閉合的是IL在全頻帶內的斜率,而不只是某個單點值。高階模擬必須看全頻段S引數,而非只看某一個頻率點的dB數。

誤讀3:“用最好的板材就能解決所有IL問題” 糾偏:當頻率進入毫米波區(>50GHz),即使最好的介質,其介質損耗也是物理規律決定的、無法歸零。同時越長走線,導體粗糙度、阻抗不連續、過孔殘樁、玻璃纖維布編織效應等“長尾”損耗因子權重上升。單一材料無法解決所有問題,需要系統級的IL設計——拓撲規劃、迴流路徑最佳化、聯結器選型等同樣至關重要。

學習路徑

  1. 基礎層:傳輸線理論(L、C、R、G模型)、二埠網路S引數基礎。掌握IL的S21定義及與回波損耗的關係。
  2. 頻率依賴性:趨膚效應、介質極化、損耗角正切的物理意義。理解為何IL隨頻率單調性增加,並懂α_c ∝ √f 與α_d ∝ f的區別。
  3. 工程計算:PCB傳輸線插損計算(用IPC-2141A或電磁模擬理解關鍵引數)、級聯IL預算方法、dB的加減法直覺。
  4. 訊號完整性進階:PAM4調變、眼圖與IL的對映、均衡(CTLE/DFE/FFE)能力上限,高速序列鏈路全預算表製作。
  5. 產業前沿:超低損耗板材選型指南、背鑽/過孔殘樁的IL影響、Retimer/Redriver晶片功能邊界、CPO矽光的物理鏈路重構。

一句話總結

插入損耗是高速互聯的“物理稅”,對AI算力系統而言,它決定了銅互連的距離和速率邊界,並正加速推動光學從機櫃間滲透到封裝內。

延伸閱讀與來源

  • IEEE 802.3 高速乙太網路標準(200GBASE/400GBASE/800GBASE相關物理層規範):對於不同物理媒介(背板、銅纜、多模光纖、單模光纖)的IL預算均有嚴格定義。
  • PCI-SIG的PCI Express Base Specification 5.0/6.0:定義PCIe鏈路的IL預算和通道要求。
  • 松下Megtron系列/Isola Tachyon系列產品Datasheet:可直觀查閱不同樹脂體系下的Dk/Df與IL密度的實際資料。
  • 學術資料:關於PAM4 SERDES鏈路預算、IBIS-AMI建模模擬、以及高速PCB低損耗設計的大量IEEE會議/期刊論文(DesignCon、EPEPS、IEEE Transactions on MTT等)。
  • 公司財報/投資者會議紀要:博通、Marvell、Astera Labs等對高速互聯趨勢的公開論述;[未檢索到具體季報資料,可查閱各公司對SerDes、Retimer及CPO的近期業務展望]。
source: 公開揭露與公開資料整理 本頁僅用於產業鏈學習、資訊檢索和研究輔助;不構成投資建議,不預測漲跌,不提供買賣、部位或目標價建議。
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